Компания АО «Эпиэл» является единственным предприятием в России, специализирующимся на производстве эпитаксиальных структур на основе кремния и сапфира для широкого спектра полупроводниковых приборов, среди которых интегральные схемы, дискретные силовые приборы и многие другие электронные компоненты.
Эпиэл» было образовано в 1998 году в Зеленограде специалистами НИИ Материаловедения, завода «Микрон» и НИИ Точного Машиностроения на базе участка эпитаксии завода «Микрон» в качестве самостоятельного предприятия, специализирующегося на производстве кремниевых эпитаксиальных структур для отечественной микроэлектроники.
За сравнительно короткий срок компания превратилась в передового производителя кремниевых эпитаксиальных структур в России и СНГ, закрепив за собой более 80% рынка
Сегодня «Эпиэл» производит кремниевые эпитаксиальные структуры мирового уровня диаметром 100, 150 и 200 мм, которые поставляются на крупнейшие предприятия микроэлектроники нашей страны — «Микрон» и «Ангстрем», а также за рубеж.
В дальнейшем на основе этих структур изготавливаются микросхемы, которые применяются в электронных устройствах как бытового, так и специального назначения. Например, интегральные схемы, производимые на «Микроне», применяются в бесконтактных RFID-билетах транспортной сети города Москвы.
Одним из уникальных и перспективных продуктов компании являются эпитаксиальные структуры «Кремний на Сапфире» (КНС)
Особенность таких структур состоит в том, что эпитаксиальный слой кремния наносится на подложку из сапфира, который является изолятором. Структуры КНС находят применение в производстве электронных компонентов как гражданского, так и военного и космического назначения. В частности, на их основе производятся радиационно-стойкие интегральные схемы, применяемые в электронных системах космической техники, атомных электростанций, а также в устройствах связи, оптоэлектронике и электронике специальных применений.
Совершенствование качества новых эпитаксиальных структур
«Эпиэл» рассматривает в качестве основного стратегического направления развития постоянные инновации, направленные на совершенствование качества выпускаемых и разработку новых типов эпитаксиальных структур с опережающим освоением их производства под будущие планы развития отечественных потребителей.
Создание нового производственного участка с оборудованием более высокого класса
За прошедшие пять лет предприятие совершило новый рывок в своем развитии, реализовав проект создания нового производственного участка, оснащенного оборудованием более высокого класса. Реализация проекта потребовала значительных инвестиций в оборудование, создание чистых помещений и обеспечение инфраструктуры. Этот уникальный для России проект имеет особое значение для отечественной электронной промышленности, поскольку закладывает прочный фундамент для ее дальнейшего развития.
Освоение новых методов получения эпитаксиальных структур
В рамках крупного проекта в 2019 году «Эпиэл» начал освоение технологии получения эпитаксиальных структур на основе нитрида галлия.
Команда высококвалифицированных специалистов
Гордостью предприятия является команда опытных специалистов в области эпитаксии, усилиями которых были разработаны гибкие технологии производства кремниевых эпитаксиальных структур, применяемые сегодня «Эпиэл».
Компания принимает активное участие в реализации Федеральной целевой программы «Развитие электронной компонентной базы и радиоэлектроники». В рамках этой работы за несколько лет были успешно выполнены ряд НИОКР, направленных на разработку технологий производства новых передовых для российского рынка типов эпитаксиальных структур. В 2015 году был завершен процесс аттестации «Эпиэл» как основного поставщика эпитаксиальных структур диаметром 200 мм для ПАО «Микрон» и тем самым решена задача импортозамещения этой продукции.
«Эпиэл» является резидентом ОЭЗ «Технополис «Москва».
Эпиэл
г. Москва, ул. Академика Валиева, 6 (бывший 1-й Западный проезд 12), стр. 2
+7 499 995-00-49
info@epiel.ru