Сейчас идет проектированию первого в России производственного участка по выпуску этого соединения. Он будет включать полную цепочку технологического и аналитического оборудования для производства гексафторида вольфрама.
«Нам далось создать уникальное оборудование для оснащения нового производства. Изготовлены лабораторная и опытная установки сорбционной очистки гексафторида вольфрама, опытная установка ректификационной очистки. Также в настоящее время завершены разработка и аттестация методик измерений газовых и металлических примесей в особо чистом гексафториде вольфрама. Наши научные разработки способствуют развитию импортозамещения, позволяют достичь технологического суверенитета страны», – подчеркнул генеральный директор НИИ НПО «Луч» Павел Карболин.
Особо чистый гексафторид вольфрама используется в микроэлектронике, например, при производстве полупроводников для осаждения металлического слоя вольфрама из газовой фазы. Этот слой отличается высокой химической и термостабильностью, низким сопротивлением и служит защитой для плат и схем. Также гексафторид вольфрама применяется для получения покрытий и изделий из высокочистого вольфрама методами газофазной металлургии (водородное восстановление, химические транспортные реакции).
Другие интересные новости читайте в нашем Telegram-канале
Автор: Анна Яковлева
#сделановроссии